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表面粗糙度測(cè)試

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設(shè)備:AFM粗糙度測(cè)試儀Dimension ICON

廠商:德國(guó) Bruker

用途:通過探測(cè)微細(xì)針尖和樣品原子團(tuán)之間相互作用力的變化來檢測(cè)樣品表面的高低起伏,具有原子級(jí)分辨率的表面形貌和表面特性分析。檢測(cè)固體材料粗糙度和局部形貌

技術(shù)指標(biāo):

l  最大掃描范圍:10umX10um,最小值:10nmX10nm

l  樣品臺(tái)尺寸:φ35mm

l  表面粗糙度:最大值為1μm

l  測(cè)試模塊:形貌測(cè)試、導(dǎo)電性能測(cè)試、靜電力測(cè)試、表面電勢(shì)測(cè)試、磁學(xué)測(cè)試、納米力學(xué)測(cè)試


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